Tüm Kategoriler
ENEN

O₂/CF₄

Tetraflorometan içindeki oksijen

The mixture of 80% CF4 gas with 20% O2 gas can be widely used in the surface cleaning of electronic components, solar cells, laser technology and other fields.

Sorgula
  • Genel Bakış
  • Açıklama
  • SSS
  • Sorgula
  • İlgili Ürünler
Tetraflorometan içindeki oksijen
Tetraflorometan içindeki oksijen
süreç

karıştırma

Kimyasal ad Oksijen tetraflorometan
CAS Numarası. 7782-44-7 75-73-0
UN no. 1956
Etiket unsurları
  • 未 标题-1

    Sinyal kelimesi: Uyarı

Açıklama

The mixture gas of tetrafluoromethane and oxygen is widely used in silicon, silica, silicon, phosphorus silicon nitride thin film material such as glass and tungsten etching, in the production of electronic components surface cleaning, solar cells, laser technology, gas phase insulation, cryogenic refrigeration, leak inspection agent, attitude control space rockets, printed circuit also has a lot of use in the production of detergent, etc.

Sıkça Sorulan Sorular
  • S: Sağlayabileceğiniz şartname nedir?

    Gas: O2/CF4   Cylinder: 44L   Valve: CGA580

Sorgula
İlgili Ürünler

Sıcak kategoriler